Gdzie jesteśmy: Strona głównaRok 2011Numer (84) → Artykuł:
AAA     ENG | POL

Możliwości zastosowania plazmy niskotemperaturowej do depozycji warstw polipyrolowych celem konstrukcji tekstylnych tranzystorów organicznych

Research and development

Autorzy:

Download... PDF
Pełen tekst (ang.)

Abstrakt:

Celem przeprowadzonych badań było przedstawienie zastosowania techniki plazmy niskotemperaturowej do depozycji cienkiej, elastycznej polipyrolowej warstwy izolacyjnej naniesionej na miedziany monofilament, która może stanowić bramkę w budowie tranzystorów na włóknie. Warstwę aktywną wykonano na drodze depozycji pentacenu metodą termicznej sublimacji. Badania skoncentrowano głównie na doborze parametrów procesu plazmowania: czasie depozycji, ciśnieniu par monomeru i mocy, takich które gwarantują optymalną grubość, gładkość oraz równomierność warstwy. Na podstawie wykonanych charakterystyk napięciowych tranzystora, dla optymalnych grubości warstw 0.56 - 0.88 μm, stwierdzono dobry efekt polowy wyrażony modulowaniem prądu tranzystora przez napięcie bramki oraz ograniczeniem prądu upływu. Rezultaty otrzymane dla tranzystorów cylindrycznych są porównywalne dla klasycznych płaskich tranzystorów organicznych.

Tagi: textile transistor, polypyrrole layer, low-temperature plasma

Cytowanie: Krucińska I., Urbaniak-Domagala W., Skoneczna M., Cosseddu P., Bonfiglio A.; Possibility of the Application of Low Temperature Plasma for the Deposition of a Polypyrrole Insulating Layer to Construct a Textile-Based Organic Field Effect Transistor. FIBRES & TEXTILES in Eastern Europe 2011, Vol. 19, No. 1 (84) pp. 78-83.

Opublikowano w numerze nr 1 (84) / 2011, strony 78–83.

KONTAKT:

FIBRES & TEXTILES
in Eastern Europe
ul. Skłodowskiej-Curie 19/27,
90-570 Łódź, Poland
tel. (48-42) 638-03-14
e-mail: infor@ibwch.lodz.pl
ftee@ibwch.lukasiewicz.gov.pl
Wydarzenia:

Redakcja
ul. Skłodowskiej-Curie 1927, 90-570 Łódź, Poland • tel.  (48-42) 638-03-14 • e-mail: infor@ibwch.lodz.plhttp://www.fibtex.lodz.pl


Redaktor naczelny Emilia Jaszczurska-Niedźwiedzka, Zastępca Redaktora naczelnego Marta Cyrczak, Korektor j. ang. Geoffrey Large, Asystent redaktora Anna Wahl, Skład komputerowy i Druk Media-Press  • Wydawca IBWCh

facebook