Abstrakt:

Przeprowadzono badania dotyczące fotostabilności na włóknach poliamidowych barwników kwasowych pochodnych 1-fenylo-3-metylopirazol-5-onu. Badania dotyczyły zależności pomiędzy budową a fotostabilnością barwników. Zbadano rolę podstawników, znajdujących się w składniku czynnym ze szczególnym uwzględnieniem podstawników, znajdujących się w pozycji orto do wiązania azowego. Stwierdzono, że fotodestrukcja barwników kwasowych na włóknach poliamidowych zachodzi według mechanizmu fotoutleniania. Odporność wybarwień na działanie światła zależy od gęstości elektronowej wiązania azowego (centrum reakcji). Szereg podstawników, znajdujących się w pozycji orto do wiązania azowego podwyższa fotostabilność barwników.